什么叫主曝光?
主曝光是通过光聚合反应,在阴片透明部分下生成浮雕的过程。版材经过背曝光后,应立即进行主曝光处理。首先把版材正面朝上放在真空晒版台上,揭去表面的保护膜,将阴图片(或称负片或底片)乳剂面朝下放置在版材上,使胶片的乳剂面与版材正面贴合。然后用一个抗静电的刷子把版面和胶片清扫干净,将聚酯膜或醋酸纤维膜切成条状,覆盖于未被阴图片盖住的版材部位,再用一张塑料片把版材、胶片、聚酯条统统盖住,用软布抹平,将膜间的积气排出,抽真空(真空压力在0。
8Pa以上),开启光源,在抽真空状态下经紫外光(365nm)曝光处理。曝光部分的版材变硬,未曝光部分的版材保持原状。主曝光是制版过程中最重要的一个环节,它影响印版的许多重要性能参数,例如网点的大小、网点角度的钝锐、精细线条的粗细等。为了确定最佳的主曝光的时间,必须进行主曝光测试,以确定最短曝光时间、最长曝光时间和曝光宽容度。
主曝光时间主要取决于版材的感光性、版材类型及曝光设备光源的强弱和背曝光的时间(浮雕髙度),以及阴图片上图文面积的大小。曝光时间过短会使图文坡度太直,线条弯曲,小字、小点部分被洗掉;反之会糊版,字迹模糊。如果在同一张印版上有大、小字,粗、细线条,可视情况用黑膜遮盖分别曝光,细小部分就不会因冲洗丢失,确保印版质量。
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